КИЕВ. 21 января. УНН. Корпорация Intel инвестирует 20 миллиардов долларов в новую крупную производственную площадку в штате Огайо (США), для разработки и производства передовых полупроводниковых микросхем. Об этом пишет УНН со ссылкой на Reuters.
КИЕВ. 21 января. УНН. Корпорация Intel инвестирует 20 миллиардов долларов в новую крупную производственную площадку в штате Огайо (США), для разработки и производства передовых полупроводниковых микросхем. Об этом пишет УНН со ссылкой на Reuters.